1、光刻胶概念：费用约占芯片制作本钱的1/3，这类设备决议了集成电路的开展水平

　　芯片制作能够包含多个工艺，如开端氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个进程需求用到的设备品种繁复，包含氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜堆积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。在整个半导体芯片制作进程中，光刻是最杂乱工艺，光刻工艺的费用约占芯片制作本钱的1/3左右，消耗时刻占比约为40-50%，光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体设备。

　　光刻机的技能水平很大程度上决议了集成电路的开展水平。ASML凭仗光刻机在全球半导体设备厂商中位列第二。数据显现，在2021年全球半导体设备厂商出售额排行中，ASML位列第二，出售额到达217.75亿美元，仅次于美国使用资料。

　　中泰证券剖析指出，ASML2017年在大陆地区的营收为9亿欧元，2022年为29亿欧元，2017-2022年年均复合增加率为26%，高于ASML总营收的年均复合增加率19%。2023年大陆晶圆代工厂中芯国际、华虹集团等连续康复扩产，别的稀有十条新式fab厂处于建造期，未来大陆地区对光刻机的需求将继续增高。现在上海微电子正在攻坚的28nm的DUV光刻机，未来我国光刻机有望从90nm打破至28nm，大陆厂商完成从“0到1”的打破。

　　茂莱光学：公司研制规划和制作的精细光学器材包含透镜、棱镜平和片，具有高面型、高光洁度、高性能镀膜目标特色，使用于光刻机、高分卫星、探月工程、民航飞机等国家严重战略开展范畴，近年来与半导体范畴的抢先企业如上海微电子、KLA、Camtek等树立安稳的协作关系，产品从样品阶段逐渐到批量交给阶段。

　　炬光科技：为半导体光刻使用范畴供给光刻机曝光体系中的中心激光光学元器材——光场匀化器，供应给国际尖端光学企业A公司，终究使用于全球高端光刻机出产商的中心设备。

　　联合光电表明，公司具有出产制作光刻机镜头的技能和才能，并结合本身的事务与技能优势，积极开展客户拓宽及更多事务的协作，详细的产品可根据客户的需求进行协作研制并定制。

　　据宜宾日报音讯，四川丽豪半导体一期项目发动活动在四川宜宾珙县经开区举办。四川丽豪半导体一期项目总出资约110亿元，其间固定资产出资90亿元，将建造年产10万吨光伏级高纯晶硅+2000吨电子级晶硅出产线月竣工投运。丽豪半导体首要从事高纯晶硅等半导体资料的技能研制、出产和出售及相关配套新能源事务，将进一步补齐上游硅料出产短板，促进工业延链补链强链，完成晶硅光伏工业全工业链集群开展。

　　当时全球半导体出售仍处于下行周期，2023年1月我国半导体商场出售额为117亿美元，同比下降32%。从上一轮我国半导体出售数据来看，下行周期时刻约为1.5~2年。考虑到本轮下行周期从2021年末开端，因而我国半导体出售增速或将于2023年Q2左右触底。

　　德邦证券电子团队以为，获益于高性能核算和轿车范畴微弱的半导体需求，全球半导体设备商场估计在2024年康复较好增加，一起叠加近期日本表明将约束23种半导体制作设备的出口，相关国产厂商有望再度迎来本乡代替催化。

　　盛美上海：已构成“清洗+电镀+先进封装湿法+立式炉管+涂胶显影+PECVD”的六大类事务地图，2022年全年成绩高增加，在手订单充分，长时间获益半导体使用商场需求增加。

　　北方华创：半导体设备布局包括刻蚀、堆积、清洗、热处理、检测等多环节，下流掩盖逻辑、存储、功率、三代半、光伏、面板等多范畴，是国内名列前茅的渠道型半导体设备供货商。